Raith EBL光刻機(jī)隔振方案

Raith EBL光刻機(jī)隔振方案

ARISMD主動(dòng)隔振系統(tǒng)/主動(dòng)式減震臺(tái)/主動(dòng)防震臺(tái),模塊化主動(dòng)隔振系統(tǒng),可采用填充式安裝方式,適用于大型光刻機(jī)、球差透射電子顯微鏡、EBL電子束曝光機(jī).......


背景:微電子微納米加工應(yīng)用

使用單位:Infinroe

設(shè)備型號(hào):Raith EBPG5200 Plus

隔振方案:ARISMD1000 Pro主動(dòng)隔振系統(tǒng)/主動(dòng)式減震臺(tái)/主動(dòng)防震臺(tái)



ARISMD Pro主動(dòng)隔振系統(tǒng)/主動(dòng)減震系統(tǒng)/主動(dòng)防震系統(tǒng)

緊湊型模塊化主動(dòng)隔振系統(tǒng),能夠抵消影響超高精密設(shè)備或工具的振動(dòng),多個(gè)獨(dú)立的隔振器可承受高達(dá)4000Kg的大型設(shè)備負(fù)載,安裝簡(jiǎn)易靈活,無(wú)需抬高及重新校準(zhǔn)。

主要優(yōu)勢(shì):

?1. 6自由度隔振

?2. 0.5Hz開(kāi)始隔振有效增益

?3. 可變阻尼

?4. 內(nèi)置人工智能功能

?5. 主動(dòng)隔振頻率范圍可調(diào)整

?6. 遠(yuǎn)程控制

?7. 內(nèi)置實(shí)時(shí)診斷工具(頻譜分析儀、示波器)

?8. 震動(dòng)模式(可選)

應(yīng)用領(lǐng)域:

?1. 電子顯微鏡(SEM、TEM、FIB、EBL、DualBeam)

?2. 半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備(光刻機(jī)、晶圓測(cè)試儀、電子束曝光機(jī)、CD_SEM)

?3. 掃描隧道顯微鏡/STM、掃描探針顯微鏡SPM、大型原子力顯微鏡/AFM

?4. X-Ray、CT、MPI

?......

規(guī)格參數(shù):

Model/型號(hào)ARISMD300 ProARISMD500 Pro
Dimensions/規(guī)格(mm)
230x230x75
230x270x75
230x230x75
230x270x75
Load Capacity(Kg)

100-300 per Isolator (Module) Number of Modules unlimited

200-500 per Isolator (Module) Number of Modules unlimited

Actuaotor Force/制動(dòng)器力
Vertical = 150N ?; Horizontal = 75N
Active Isolation Range/主動(dòng)隔振頻率
0.5-100Hz
Architecture/結(jié)構(gòu)
MVIS - Multi-layer Vibration Isolation Structure/MVIS-多層隔振結(jié)構(gòu)
Degrees of Freedom/自由度
6 degrees
Vibration Isolation Performance/性能
~8db gain on 1Hz?

~20db gain on 2Hz

Setting Time/響應(yīng)時(shí)間
≤0.1 sec
Real-Time Diagnostic Tools
實(shí)時(shí)診斷工具
Built-in Real-Time 2 channels Oscilloscope, Real Time 2 channel Spectrum Analyzer
Real-Time performance adjustment
實(shí)時(shí)性能調(diào)整工具
Adaptive Control in ALL 6 degrees of freedom in real-time. Remote Access
Input Voltage/電壓
AC 80-260V/50-60Hz

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